Hirdetés

Már reális alternatívának tartja a Hyper-NA EUV-t az ASML

Korábban ez nem volt egyértelmű, de a következő évtizedre is megvannak a megfelelő litográfiai alapok.

A Tweakers egy friss riportot közölt arról, hogy az ASML hogyan lett az EUV litográfia területén egyeduralkodó, és a Veldhoven-i székhelyű vállalat ennek elkészítésében aktívan részt vett, részletesen kommentálva az egyes fontos eseményeket.

Hirdetés

Érdekesség ugyanakkor, hogy a jövőről is szó esik az írásban, és ebből a szempontból nem számít meglepetésnek, hogy az EUV-t az úgynevezett High-NA EUV litográfia váltja majd. Roger Dassen, az ASML pénzügyi igazgatója szerint ezek a gépek 2026-tól elérhetők lesznek, a gyártó pedig azt tervezi, hogy 2027-2028 körül évente 20 darab ilyen berendezést szállít.

A fentieknél érdekesebb, hogy a High-NA utódjának szánt Hyper-NA is reálisabb alternatívának tűnik. Ez azért lényeges, mert Martin van den Brink, az ASML elnöke és technológiai igazgatója korábban azt mondta, hogy Hyper-NA túl drága lehet ahhoz, hogy egyáltalán nyereséges legyen rajta a gyártás. Most viszont részletesen kifejtette, hogy az ügyfeleikkel való beszélgetések alkalmával megértette, hogy a partnereik olyan változásokat akarnak, amelyek által a lapkák tömeggyártása akár Hyper-NA EUV litográfiával is nyereséges maradhat.

A Hyper-NA bevezetése ebben az évtizedben nem lehetséges, de a következőben opció, de azt továbbra is hangsúlyozza a szakember, hogy sok múlik a költségeken.

  • Kapcsolódó cégek:
  • ASML

Azóta történt

Előzmények

Hirdetés