Hirdetés

Egyelőre nem küzd a High-NA EUV berendezésekért a TSMC

A friss híresztelések szerint 2 és 1,4 nm-es node-on sem alapozna ezekre a tajvani bérgyártó.

Az ASML már szállítja a készülő, High-NA EUV berendezés mintáit az érdeklődő partnereknek, köztük az Intelnek és a Samsungnak is, de a DigiTimes Asia szerint a világ legnagyobb bérgyártójának számító TSMC egyelőre nem tervez az új technológiával.

A modern chipgyártásban az EUV, vagyis az extrém ultraibolya sugárzású litográfia már elengedhetetlen, de ahogy haladunk a kisebb csíkszélesség felé a jelenlegi berendezések numerikus apertúrája egyre korlátozóbb lesz. Pusztán az áramkörök méretének csökkenése finomabb részletességű feldolgozást igényel, és ezért készülnek a High-NA, vagyis a nagy numerikus apertúrájú EUV-s berendezések.

Ezek hátránya ugyanakkor, hogy rendkívüli módon megdrágítják a chipgyártást, vagyis a nyilvánvaló előnyök mellett számolni kell azzal, hogy egy High-NA EUV-s gyártósoron költségesebb lesz elkészíteni az egyes lapkákat. Emiatt is fordulhat meg a TSMC fejében, hogy ameddig csak lehet húzzák az új berendezések bevezetését, és a már meglévő eszközeikkel próbálhatják meg abszolválni a 2 és 1,4 nm-es lépcsőt, különböző trükköket alkalmazva, gondolva itt a többszörös levilágításra. Az efféle módszerek azonban rejtenek némi kockázatot, esetlegesen a kihozatali arány lassabban futtatható majd fel.

A bérgyártók között ez láthatóan egyfajta felfogásbeli eltérés. Az Intel és a Samsung inkább bízik az új berendezésekben, és felvállalják a növekvő költségeket, amit aztán majd áthárítanak a megrendelőkre. Eközben a TSMC megpróbálja olyan olcsón megoldani a problémákat, amennyire csak lehet, elfogadva ennek az útnak a saját kockázatait.

Tekintve az ASML gyártókapacitásának szűkösségét, ez a döntés nagyban meghatározhatja egy bérgyártó, készülő node-okon mutatott versenyképességét. High-NA EUV-s berendezésekből ugyanis nem lesz sok, évente hozzávetőleg 20 darab készülhet majd, és ha a TSMC ezekre nem tart igényt, akkor az első körös megrendelésekről lemondanak, vagyis nagyjából öt éves távlatban tudnak csak a legmodernebb levilágításban gondolkodni. Ez reálisan nézve az 1 nm-es gyártási eljárásnál való bevezetést jelenti majd.

  • Kapcsolódó cégek:
  • TSMC

Azóta történt

Előzmények

Hirdetés