Hirdetés
Az SK Hynix bejelentette, hogy az iparágon belül elsőként alkalmaznak High-NA EUV berendezéseket a DRAM lapkák tömeggyártására. A szóban forgó gyártósor az M16-os gyárépületen belül lett kiépítve a dél-koreai Icheonban.
A vállalat szerint az általuk használt, ASML által gyártott High-NA EUV berendezésekkel 1,7-szer kisebb tranzisztorokat lehet alkalmazni, miközben a tranzisztorsűrűség akár 2,9-szer jobb lehet az aktuálisan használt EUV gyártósorokhoz viszonyítva. Az SK Hynix várhatóan több generációnyi gyártástechnológiát szolgál majd ki a friss berendezésekkel.
