A TSMC az elmúlt év nyarán jelentette be, hogy elkészültek az első a 10 nm-es tesztlapkák, és most a bérgyártó azt is elárulta, hogy már az idei első negyedévben biztosíthatják a megrendelők prototípusait az említett node-on. Ez gyakorlatilag a tényleges gyártás beindítása előtti legfontosabb mérföldkő egy adott gyártástechnológia fejlesztése során, hiszen majdnem véglegesnek tekinthető, partnerek által biztosított áramkörökből lesz egy minta generálva.
Ezzel tulajdonképpen a TSMC a várnál jobban halad a 10 nm-es node fejlesztésével, és ha minden jól alakul a teszteken, akkor már idén megkezdődhet a tömeggyártás. Utóbbi fontos tényező, mivel a Samsung is az idei évre tervezi a saját 10 nm-es node-ja esetében a tömeggyártás beindítását, vagyis a TSMC nem pihenhet. Valószínűleg az Apple meggyőzése a cél, hiszen jellemző, hogy a bérgyártók új generációs node-jaira elsőként az almás cég pályázik.
A TSMC a 10 nm-es node mellett arról is beszámolt, hogy a 7 nm-es és az 5 nm-es fejlesztések is jó ütemben haladnak. Emiatt a vállalat agresszív útitervvel dolgozik, mivel a 7 nm-es node-ot 2018-ban, míg az EUV, azaz az extrém ultraibolya sugárzású litográfiát használó 5 nm-es node-ot 2020-ban vezetnék be. Az EUV-t egyébként 7 nm-en kipróbálják.
