Az IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM) alkalmával, az ASML prezentációján belül feltűnt egy olyan útiterv, amely az Intel, hosszabb távú gyártástechnológiai előrejelzését taglalja. Ezen belül az látszik, hogy a legnagyobb processzorgyártó két évente hoznak új gyártási eljárást, ami rendkívül optimistának hat azok után, hogy a 14 nm-ről immáron évek óta nem tudnak továbblépni, de ugyanakkor szükségszerű is, ha valamennyire tartani akarják a lépést a TSMC és a Samsung fejlesztéseivel, vagy esetleg később visszavennék a technológiai elsőséget.
Az ASML diája (forrás: AnandTech) [+]
A nehezen megszülető 10 nm-es node után már hivatalosan is bejelentésre került a 7 nm-es eljárás, amely biztosan EUV litográfiát használ majd. Itt a céldátum 2021-es esztendő, és nemrég Bob Swan azt nyilatkozta, hogy az első ilyen lapkát az említett év vége felé bemutatják. Ténylegesen ugyan nincs megerősítve, de jó eséllyel a Sapphire Rapids kódnevű szerverprocesszorról van szó.
A koncepciót tekintve az Intel minden node-ra két továbbfejlesztést tervezne, és a másodikra visszaportolhatók lennének az új generációs eljárásra épülő megoldások. Utóbbi egy hasznos tényező lehet, ha esetleg az új gyártástechnológia mégsem készül el időben. Tekintve, hogy az Intel a 14 és a 10 nm-es csíkszélességnél is csúszott, így érdemes előre felkészülni a nem várt fejleményekre.
Az Intel eredeti diája (forrás: AnandTech) [+]
Az ASML egyébként a 7 nm után 5, 3, 2, és 1,4 nm-es eljárást jósol, utóbbi 2029-ben érkezne. Ugyanakkor fontos kiemelni, hogy a fenti dia gyakorlatilag a Santa Clara-i óriáscég, International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) 2019 rendezvényen előadott prezentációjából származik, és ezt az ASML módosította. Ez azért nagyon lényeges, mert az Intel az egyes node-okra kódjelzéssel utalt, míg az ASML konkrétan csíkszélességgel, de utóbbi esetben, főleg hosszabb távon egyáltalán nem garantálható, hogy megjelölt szám lesz a nanométer elé írva. Ezt észben tartva érdemes kezelni a fenti információkat.