Az Intel régóta küzd a 10 nm-es eljárás bevezetésével, amelyet idén végre sikerült kivitelezni, bár egyelőre még eléggé korlátozott az érintett node-on gyártott lapkák száma. A tervek több éves csúszását a cég korábban számos módon magyarázta, egy időben még azt bizonygatták, hogy a 10 nm-es node-juk felér a konkurensek 7 nm-es megoldásaival, de végül egy olyan gyártási eljárást vezettek be, amelynek a részletes paraméterei nem ismertek, illetve az Ice Lake kódnevű lapka kapcsán is titkolnak bizonyos adatokat, többek között a tranzisztorszámot. Mindez rendkívül nehézzé teszi az Intel gyártástechnológiájának az összehasonlítását a TSMC vagy a Samsung legmodernebb opcióival.

A fentiek kapcsán már felmerült, hogy az Intel elvesztette-e a gyártástechnológiai előnyét, de ezt publikus adatok nélkül nem lehet egyértelműen kijelenteni. Persze a Santa Clara-i óriáscég helyzete sem lehet egyszerű, az évtized első felében még egy teljes node-dal vezettek, majd Brian Krzanich vezetősége alatt látszólag egy teljes node hátrányba kerültek. A téma emiatt némileg tabuvá vált, főleg ez az oka annak, hogy amíg korábban a cég büszkén kürtölte világgá, hogy az új lapkáik mekkora területre mennyi tranzisztort pakolnak, addig manapság az erre vonatkozó információkat még külön kérésre sem árulják el.

Robert Swan, a vállalat év elején kinevezett elnök-vezérigazgatója úgy néz ki, hogy megtörte a jeget, és az előző negyedévre vonatkozó pénzügyi konferencián bejelentette, hogy növelnék a gyártási eljárásokra vonatkozó beruházásaikat, méghozzá a vezető szerep visszaszerzése érdekében. Az Intel vezére ezzel lényegében elismerte, hogy elvesztették a gyártástechnológiai előnyüket, amit természetesen lehetett sejteni, de így már szembenézhetnek a problémával. A rendkívül egyértelmű megfogalmazás valószínűleg jót tesz majd a Santa Clara-i óriáscégnek, hiszen Robert Swan kijelentése célt adhat a mérnököknek: le kell győzni a TSMC-t és a Samsungot a gyártástechnológiák területén.