Új hozzászólás Aktív témák

• #24 shabbarulez őstag shabbarulez #23

  Új Válasz 2010-07-19 14:55:02 #24

  Új hozzászólás

  Összes hozzászólása itt Válaszok az összes hozzászólására itt Válaszok erre a hozzászólásra

  Privát üzenet küldése

  

  shabbarulez

  őstag

  válasz shabbarulez #23 üzenetére

  Visszatérve még az EUV-hez, hisz nem csak ASML van a piacon, még akkor is ha közel övék a piac 80%-a. Ott van még a Nikon is, de az ő EUV fejlesztéseiről kevesebbet tudni, kevésbé van ismert roadmapjuk. Ott is készült két alpha tool anno 2007-ben, amik japán fejlesztői központokban kerültek elhelyezésre és azokat is különböző fejlesztői csoportosulások használták az elmúlt évek során. Ezek jellemzően a két legnagyobb R&D fejlesztő az IBM és az Intel köré csoportosuló cégeket jelentik, hasonlóan ahogy az ASML két ADT eszközénél ez volt tapasztalható. Viszont béta eszköz fronton a Nikon jobban el van maradva, tőlük kevesebb konkrétum hangzott el az elmúlt év során mint ASML-től.

  A Canon meg teljesen kikopott a vezető hármasból az elmúlt évek során. Az ő EUV fejlesztésekről is voltak még pletykák pár éve, de az utóbbi időkben inkább csak ezek végleges jegeléséről voltak találgatások. Canon az elmúlt időszakban már csak az LCD piac felé kínált litográfiai eszközöket és nagyon úgy tűnik a jővőben is inkább a nano imprint vonal felé akarnak orientálódni, az LCD és HDD piacot megcélozva. Az EUV vonal pedig részükről teljesen elúszott, ezzel pedig a csúcskategória eszközök piacáról végérvényésen kihullanak és kétszereplőssé válik a piac.

• #25 Lotusomega senior tag shabbarulez #23

  Új Válasz 2010-07-19 14:57:09 #25

  Új hozzászólás

  Összes hozzászólása itt Válaszok az összes hozzászólására itt Válaszok erre a hozzászólásra

  Privát üzenet küldése

  

  Lotusomega

  senior tag

  válasz shabbarulez #23 üzenetére

  Húú, szép kis hsz. lett. Végigolvastam, hát pont az lenne a léyneg hogy valami merőben újat találjanak ki amivel forradalmasíthatják az iparágat, és lehet hogy még a jelenleginél is ocvlsóbban tudják előállítani. De hát madj kiderül..

• #26 Oliverda félisten shabbarulez #23

  Új Válasz 2010-07-19 15:02:16 #26

  Új hozzászólás

  Összes hozzászólása itt Válaszok az összes hozzászólására itt Válaszok erre a hozzászólásra

  Privát üzenet küldése

  

  Oliverda

  félisten

  válasz shabbarulez #23 üzenetére

  Szerintem nem vázolt ott semmiféle időbeli előnyt. Valszeg csak rosszul értelmezted.

  [ Szerkesztve ]

  "Minden negyedik-ötödik magyar funkcionális analfabéta – derült ki a nemzetközi felmérésekből."

• #27 Thrawn félisten shabbarulez #23

  Új Válasz 2010-07-19 15:53:48 #27

  Új hozzászólás

  Összes hozzászólása itt Válaszok az összes hozzászólására itt Válaszok erre a hozzászólásra

  Privát üzenet küldése

  

  Thrawn

  félisten

  válasz shabbarulez #23 üzenetére

  Szó nincs időbeli előnyről, sem másmilyenről, kizárólag kockázat van. Mint ahogy írtad is, a félig-meddig termel(get)ésre is alkalmas EUV eszközökből mindössze 6 darab létezik a világon, ebből mindegyik különböző gyártókhoz kerül. Az utolsót az ASML szerette volna megtartani magának további kísérletezés céljából, de valószínűleg a TSMC-hez kerül. Ők egész véletlenül épp most álltak neki egy új Fab építésébe, ami 9 milliárd dollárba fog fájni (ha minden jól megy) és ha hinni lehet nekik, akkor zéró emissziója lesz. Itt nagyrészt 40 és 28 nm-es technológiával fognak dolgozni, de nem tartom kizártnak, hogy EUV gyártósorok is bekerülnek ide, feltéve ha egyáltalán addigra készen lesznek.

  A Canon mellett szerintem lassan a Nikont is ki lehet pipálni. Az Intel vásárolt többnyire tőlük, de az EUV eszközeiket mégis az ASML-től vették meg.

  Az e-beamnek más baja is van, jelenleg max 100W-os, ezt 200-ra szeretnék feltornázni. De nem csak emiatt késik az EUV, még fel kellene találni hozzá pár anyagot is, pl. hatékony fotorezisztív anyagokat is.

  A Molecular Imprints Inc. szerint a nano-imprint kiváló és gazdaságos lesz NAND termelésre (gondolom akkor már DRAM-hoz is), kár, hogy itt is csak feltételes módban és jövő időben beszélnek. A kihozatali eredményeik jelenleg tökéletesen alkalmatlanok bárminemű termelésre.

  "A Moore törvény gátja sokkal inkább gazdasági mint technológiai."
  Ebben tökéletesen egyetértünk. Ennek a mondatnak az igazát jól jelzi, hogy érezhető a bizonytalanság a gyártástechnológiai megoldások jövőjét illetően, nem tudni, mi lesz a befutó. Ami a gazdasági részét illeti, nemrég olvastam (már meg nem mondom hol), hogy pár évtizede még 60$-t lehetett keresni egyetlen chipen, ma ez mindössze 6$-ra csökkent. Egy új, alacsonyabb csíkszélességű gyártástechnológiára való áttérés már jóval később térül meg, a gyártósorokat tovább kell üzemeltetni, hogy visszahozzák a fejlesztésükbe ölt forrásokat. és ugye konkurencia is van.

  A 450mm-es waferek bevezetése is folyton csúszik, én még nem hallottam róla, hogy valaki már elkezdte-e egyáltalán fejleszteni az ekkora szilíciumszeletek megmunkálására alkalmas gépeket. Magának a szilícium egykristálynak az elkészítése nem okozna már gondot.

  Different songs for different moods. łłł DIII Thrawn#2856 łłł Look! More hidden footprints! łłł D4BAD łłł WoT: s_thrawn łłł

Új hozzászólás Aktív témák