Az Intel a 39. NIC (Nasdaq Investors Conference) rendezvényen szokatlan őszinteséggel beszélt a gyártástechnológiai átállásra vonatkozó nehézségeikről, amit igazából már nem is érdemes titkolni, hiszen a korábban tervezett 10 nm-es node-juk lassan három éve késik. A vállalat kliens és az IoT üzletágát vezető Dr. Venkata M. Renduchintala szerint a problémájukat nem nehéz meghatározni. A cég egyszerűen túl komoly előrelépést akart elérni a 2,7-szeres skálázási faktorral, miközben az EUV litográfia bevezetését el akarta kerülni. A DUV (deep ultraviolet) litográfia azonban a tervezett agresszív előrelépés mellett nem működik jól, és ez okozza a nehézségeiket.
A fenti problémát lehetett sejteni, több szakértő is ezt fejtegette korábban, a hivatalos megerősítés azonban mindig jól jön. Dr. Venkata M. Renduchintala kiemelte, hogy a 10 nm-es ambícióik nem változtak, így a bevezetés lehet, hogy csúszik, de a tervek megegyeznek a 2014-ben lefektetettel.
A 7 nm-es node-ról is beszélt az Intel, amely fejlesztést egy teljesen másik csapat végez. Ez igazából nem akkora meglepetés, ugyanis a gyártástechnológiák megtervezése fél évtizednél is több időt vesz igénybe, így tipikus dolognak számít az iparágon belül, hogy az egymást követő full node-okon nem ugyanazok a mérnökök dolgoznak. A 7 nm-es opció egyébként már EUV litográfiát használ a skálázási faktor pedig nagyjából kétszeres lesz.
A 7 nm-es gyártástechnológiára vonatkozóan az Intel nem árult el konkrét időpontot, míg a 10 nm-es node-ot továbbra is a következő év végére várják.
