Aktív témák

• #128 erdoke titán Power #35

  2004-02-10 12:39:11 #128

  Összes hozzászólása itt Válaszok az összes hozzászólására itt Válaszok erre a hozzászólásra

  Privát üzenet küldése

  

  erdoke

  titán

  válasz Power #35 üzenetére

  Egyetértek az elmondottakkal, bár azt nem szabad elfelejteni, hogy a nagyobb skálázhatóság alatt biztosan nem ezt gondolta az Intel, amikor a 31 lépcső mellett döntött. Vmi van a levegőben, talán mégis nagyobb lesz a változás az új tokozáskor nagy valószínűséggel érkező új steppingnél. Persze ez csak jóslat, nincs titkos informátorom Intel berkekből.
  
  Még egy kérdésem is van: Amennyire én látom, a Strained Silicon és a SOI ugyanarra a problémára kínálnak eléggé hasonló megoldást, ráadásul mindkettő az IBM boszorkánykonyhájából származik. A kettő között van vmi olyan minőségi v. mennyiségi különbség, ami indokolja, hogy ekkora a szivárgási differencia? Vagy egyszerűen tényleg csak ekkora a különbség a 90 nm-es szivárgás és a 130 nm-es szivárgás között?

  A legjobb aláírás a héten

Aktív témák