A TSMC a legutóbbi pénzügyi jelentése kapcsán tartott konferencián megerősítette, hogy a terveknek megfelelően halad az 5 nm-es node fejlesztése, amely gyorsan követi majd az aktuálisan elérhető 7 nm-es gyártástechológiát, illetve ennek az EUV-s változatát. A tajvani bérgyártó a kísérleti gyártást már az aktuális esztendő első felében megkezdi, amikor is megtörténik az első megrendelő egyik lapkájának tape-outja. Ha minden jól megy, akkor a következő év első felében indulhat meg a tömeggyártás. A vállalat jelenleg úgy látja, hogy elsődlegesen a HPC-piacon érintett partnerek fognak átállni az új eljárásra.
A TSMC az 5 nm-es FinFET node-ján már nem kínál EUV nélküli opciót, de ez nem újdonság, a bérgyártó már korábban közölte, hogy ezen a csíkszélességen az extrém ultraibolya sugárzású litográfia komolyabb alkalmazása elengedhetetlen.