A Micron felvázolta a gyártástechnológia fejlesztésére vonatkozó útitervét, amely a jelenleg használt 1-alpha node-ról való továbblépést fedi le. A cég adatai alapján már következő évben megkezdődik a tömeggyártás az 1-beta node-on, de ennél sokkal fontosabb az 1-gamma node, amely bevezeti az EUV litográfiát.

Az átálláshoz a vállalat már idén előkészül, mivel EUV-s berendezésekkel egészítik ki a Taichung városában található gyárukat, ami a korai felkészülést segíti. A tömeggyártás viszont az 1-gamma node-on később esedékes, 2023-ban vagy rosszabb esetben 2024-ben.

Készül az 1-delta node is, de ez eléggé távoli fejlesztésnek számít jelenleg, viszont az EUV litográfia használata biztos. A Micron a csíkszélességet már egyik node-jára sem adja meg, de az útiterven szereplő opciók 10 nm-hez közeli megoldások lehetnek.