Közelebb került az önálló chipgyártáshoz Kína

Az SMEE DUV litográfiai berendezése nagy előrelépés, de nyugati mércével mérve még így is hatalmas a lemaradás.

Hirdetés

A The Information riportja szerint megkezdődött Kínában a hazai fejlesztésű immerziós DUV litográfiai berendezések korlátozott gyártása. A sanghaji SMEE idén öt rendszert szállíthat majd le az SMIC, a CXMT és a Hua Hong számára, 2027-ben pedig mintegy húsz gép készül a hazai piacra.

Ez a mennyiség egyébként nem sok, mivel az ASML csak tavaly 131 darab DUV rendszert biztosított, viszont ezek az apró lépések az önellátás felé viszik a kínai félvezetőipart.

Fontos, hogy egyelőre nem ismert a szóban forgó gépek teljesítménye, illetve az is kérdés, hogy képesek lesznek-e helytállni az SMIC 5 nm-es gyártástechnológiájával, vagy csak a kevésbé fejlett node-okon vethetők be. Mindezek mellett kiemelendő, hogy a fejlesztés így sem teljesen kínai, mivel még mindig tartalmaz Japánból importált, lényegében kulcsfontosságú alkatrészeket.

Előzmények

Kína korlátozta a chipgyártás egyik fontos összetevőjének exportját

Ez egyelőre nem jelent nagy gondokat, de más országok esetleges korlátozása mellett már problémák merülhetnének fel.

Először ismerte el Kína, hogy exascale szuperszámítógépet építenek

A pletykák szerint már van ilyen kaliberű rendszerük, de hivatalosan sosem beszéltek róla.

EUV-áttörés vagy marketingfogás? Lépeget előre Kína a felzárkózás rögös útján

Csoda vagy csak elvárható minimum? Ez itt a nagy kérdés a Reuters írását figyelembe véve.

Legalább 20 éves lemaradásban vannak a kínai litográfiai cégek?

A Goldman Sachs szerint ennyi a különbség az ASML-hez viszonyítva, de valószínűleg azért kevesebb.