A Goldman Sachs egy friss jelentést írt arról, hogy Kína mikor érheti utol a nyugatot a chipgyártást tekintve, amelynek az egyik legfontosabb komponensét a litográfiai berendezések adják. Ebből a szempontból az ASML nemcsak piacvezető, hanem egyedülálló is, ugyanis a holland vállalaton kívül más nem gyárt EUV litográfiát használó rendszert, ami a modern gyártástechnológiák elengedhetetlen eleme.
Hirdetés
Ehhez Kína nem fér hozzá, mivel az ASML számos amerikai technológiát használ, így az USA a szóban forgó berendezések exportját nem engedélyezi a keleti nagyhatalom felé. Ezt csak nagyon nehezen lehet megkerülni, vagyis ha valamilyen furfangos módon sikerül is egy modern rendszert a kínai határon belül vinni, akkor sincs állandó ellátás, emiatt a lehetőségek eléggé korlátozottak.
(forrás: Ray Wang X) [+]
Kína számára a megoldás az lenne, ha saját technológiára épülő litográfiai berendezéseket használnának, de a Goldman Sachs véleménye szerint legalább 20 évre vannak az ASML-től. Ezt arra alapozzák, hogy a belföldi litográfiai berendezések jelenleg 65 nm-es lapkákhoz valók.
Az igazsághoz hozzátartozik, hogy a szóban forgó területen, a Kínában vezető szerepet betöltő SMEE már leszállította az első, SSA/800-10W nevű, DUV litográfiát használó gépet, amivel a 28 nm elérhető, de csak egy ilyen rendszer működik az SMIC gyárában, és ezt is még tesztelik. Ergo a technológiai háttér megvan Kínában a 28 nm-es eljáráshoz, de még nem lehetséges a tömeggyártás biztosítása rajta. Valószínű tehát, hogy a 20 éves lemaradás valamivel kevesebb, inkább 15 év körül van, viszont a hátrány ettől még egyértelmű, így egyhamar Kína nem fog teljesen saját technológián nyugati chipdizájnokkal versenyképes lapkákat gyártani.
