IDF: flash memóriák 90 nanométeren

Az Intel tegnap az IDF-en jelentette be, hogy a világon elsőként kezdte meg NOR flash memóriák gyártását 90 nanométeres gyártástechnológiával. A kisebb csíkszélességnek köszönhetően mintegy 50 százalékkal lesz kisebb a lapkák mérete, így megkétszereződik a gyártókapacitás és csökkennek a költségek – mondta Sean Maloney, a vállalat vezető alelnöke. Kezdetben az Intel az egy memóriacellában egy bitet tárolni képes egyszerűbb chipeket készíti a korszerű technológiával, az egy cellában két bitet tároló StrataFlash lapkák esetében a konverzióra később kerül sor.

A 90 nanométeres technológiával gyártott 64 Mbites chipek mintapéldányai áprilisban lesznek hozzáférhetőek, a sorozatgyártás pedig a harmadik negyedév során kezdődik meg. A 256 és 512 Mbit kapacitású Intel StrataFlash lapkák megjelenése később várható.

  • Kapcsolódó cégek:
  • Intel

Azóta történt

Előzmények

Hirdetés