A Sapphire mindig is kísérletező kedvű cég volt, amikor valami új megoldásra épülő hűtőt kellett fejleszteni. A mérnökök az elmúlt hónapokban is dolgoztak egy jó hatásfokú modellen, amivel a forrófejű grafikus processzorok egyre nagyobb hőtermelését próbálják problémamentesen elvezetni. A vállalat elmondása szerint a Vapor Chamber, azaz a hőkamrás technológia a legmegfelelőbb erre a feladatra.

Fotó: Computerbase [+]

A hőkamrás rendszer alacsony nyomású levegőt tárol a kamrában, így a benne található rendkívül kis mennyiségű víz már alacsony hőmérsékleten is képes forrni. A folyadék a meleg oldalról elpárolog, ami hőelvonással jár, a hideg oldalon pedig lecsapódik, így a hőt sikerül leadni a felületnek. Ezután a víz hajszálcsöveken keresztül visszajut a meleg oldalra, és a folyamat újra elkezdődik.

Fotó: Computerbase [+]

A Sapphire standon természetesen meg is lehetet csodálni a prototípusokat, ám működés közben nem lehetett kipróbálni. A cég szóvivője szerint az új hűtők még fejlesztés alatt állnak, így a végleges változat megjelenéséről nincs pontos információ. Arról azonban beszámolt, hogy a korábban használt Vapor Chamber rendszerekhez viszonyítva jobb lett a termék hatásfoka.

Az új hőkamrás elven működő hűtőket várhatóan az Atomic és a Toxic grafikus kártyákra építik majd.

A termékről készült további képeket az alábbi galériában lehet megtekinteni.