Napjaink félvezetőiparában a csíkszélesség csökkentése egyre nagyobb problémákat okoz, a technológia kifejlesztése pedig jelentős összegeket emészt fel, amit egy gyártó egyedül nem engedhet meg magának. Az NEC Electronics eddig a Toshibával szövetkezve dolgozott a 45 nm-es és 32 nm-es CMOS technológián, most pedig csatlakozott az IBM vezette kutatócsoporthoz. Az eddigi hét tag a Chartered Semiconductors, a Freescale Semiconductor, az Infineon Technologies, a Samsung, az STMiscroelectronics, a Toshiba és persze az IBM.

A kutatások fő célja a 32 nm-es CMOS gyártástechnológia kifejlesztése, de a továbblépéshez szükséges kutatásokon is dolgoznak. A főhadiszállás az IBM East Fishkill-i üzemében van, ahol a lehető legmodernebb eszközök állnak rendelkezésre, itt fejlesztették ki a high k + metal gate (HKMG) technológiát is, amelyet 32 nm-es csíkszélességen is alkalmazni fognak. A kutatók becslései szerint az integrált áramkörök teljesítménye 35%-kal fog megemelkedni a 45 nm-en gyártottakhoz képest ugyanolyan üzemi feszültség mellett, vagy ezt megfordítva, ugyanolyan teljesítmény mellett 30, de akár 50%-kal kevesebb feszültség szükséges.